摩爾定律一直在推動IC線寬和尺寸的變化。為了跟上技術發展的步伐，前端制造設備和測量設備中的納米定位機構和精密運動控制系統的精度必須達到10倍至1000倍的更高精度和更小特征尺寸。振動、定位誤差和漂移必須控制在0.1nm范圍內（原子半徑量級）。傳統的定位系統已經無法提供半導體產業所需的穩定性和精度。

       在半導體領域，使用基于壓電陶瓷的解決方案，包括用于減震的長壽命壓電元件，用于定位的超高性能大行程納米定位平臺。其他的精密運動產品還包括用于快速光束穩定/角度校正的壓電偏擺平臺，用于納米測量應用的壓電柔性納米臺，用于掩模對準的納米對準系統，用于水平和垂直定位的新型混合大行程納米定位臺。電容納米測量傳感器可以測量亞納米尺度的運動并具有很高的帶寬，也大量應用在半導體產業中。

       隨著光刻工藝的發展，如今的芯片變得越來越小，硅晶片上也出現了極為精細的結構。原子力顯微鏡(AFM)可實現原子級的高分辨率表面測量，為半導體制造領域帶來了全新的檢測方法。壓電陶瓷驅動器憑借出眾的性能及可靠性為這些技術進步做出了貢獻。

現代電子芯片架構已經縮小到納米級，在半導體工業生產中基于品質控制及高精度測量的要求，壓電驅動器可提供：

   ? 擺動精準定位控制在µm 和nm 級

   ? 快速半導體研究掃描系統

   ? 晶圓支架和晶圓調整裝置